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洗浄装置、散布装置、検査装置、イオナイザー等、装置メーカーの株式会社ゼビオス

　散布装置とは、各種液晶パネルのセルギャップを形成する為に、定められた

個数のスペーサを基板上に均一に散布する装置です。従来の散布装置の経験と

技術を結集し、今回新たに、スペーサ個数をフィードバック制御できるQME方

式を開発しました。独自に開発した帯電検出器を設けて、スペーサと圧送配管

内で発生する摩擦帯電量の測定を可能としています。帯電量と散布個数に相関

関係があることを確認し、これらをもとに散布中の帯電量とスペーサの送り込

み量をフィードバック制御することで、散布個数の安定性、凝集対策、スペー

サ使用効率を高めた装置です。

　QME方式の特徴は、スペーサの送り込み量を帯電量として計測し、フィード

バック制御を行っている為、散布個数変動要因の誤差を吸収する事が可能とな

りました。また、検査装置の実測地から補正フィードバックを行うことも可能

で、散布中の帯電量、散布後の実測値の二方向から、より正確な散布個数のフ

ィードバックを行うことが可能になります。

　・新型秤量器ではスペーサをほぼ100％吸い込むことが可能で、スペーサの

　　使用効率を大幅に改善

　・高圧印加チャンバー＋新型QME秤量器＋固定式マルチプレクサーノズル

　　により安定した効率の良い散布を実現

　・秤量器の構成部品を少なくし、少量多品種生産を行う場合の品種切替時間

　　とクリーニングの手間を大幅に削減

QME方式

散布量	散布中にスペーサ帯電量をフィードバック（検査装置からの補正フィードバックも可能）
散布可能枚数	従来比約200～400％、但しスペーサ種類による（G5サイズ当社比）
TactTime	15～20sec（散布時間のみ）
散布方法	マルチモード
散布ノズル	固定式
秤量器クリーニング時間	10分
スペーサ径	2μm～6μm
用途	TFT　LTPS　C-STN　STN　TN